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英国Ossila浸渍提拉镀膜机性能,内置软件,操作简单,价格经济,为科研领域工作者提供一款理想的适用于液相镀膜制备而设计的精密仪器。目前在化学、材料科学的研究中,被广泛应用于溶胶-凝胶(sol-gel)法薄膜材料制备。如硅片、晶片、玻璃、陶瓷、金属等所有固体材料表面薄片材料镀膜工艺,可以精准控制膜片提出速度,进而控制涂层厚度,保证良好重复性。提供2年的质保,为使用者提供更高的保障。
英国Ossila小型狭缝涂布仪结构紧凑,价格实惠,使用简单,准确度高。 对于那些希望在小型实验室中扩大实验工艺的用户来说,它是理想之选。与卷对卷和片对片沉积工艺相兼容,狭缝涂布是用于可扩展沉积薄膜的技术之一。其广泛的加工窗口确保稳定、无缺陷的沉积,适用于各种粘度的溶液。薄膜均匀度高,准确且可重复,厚度可通过改变流速和基材速度来控制。
英国Ossila公司匀胶旋涂仪,操作简单,方便实用,旋涂均匀,结构小巧紧凑,为实验室提供了理想的解决方案,其采用创新设计的非真空卡盘式旋涂吸盘,无需真空泵或充氮气,就能达到很好的旋涂效果。匀胶旋涂仪可对大小不同规格的基材都可进行旋涂,尤其是对超薄样品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄时同样能达到旋涂效果。不会出现真空吸盘旋涂较薄的基材衬底翘曲现象,影响涂层的均匀性。匀胶旋涂仪广泛应用于微电子、半导体、制版、新能源、生物材料、光学及表面涂覆等工艺。
英国Ossila SpinProcessor,操作简单,方便实用,旋涂均匀,结构小巧紧凑,为实验室提供了理想的解决方案,其采用创新设计的非真空卡盘式旋涂吸盘,无需真空泵或充氮气,就能达到很好的旋涂效果。可对大小不同规格的基材都可进行旋涂,尤其是对超薄样品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄时同样能达到完美的旋涂效果。不会出现真空吸盘旋涂较薄的基材衬
英国Ossila-Spin Coater操作简单,方便实用,旋涂均匀,结构小巧紧凑,为实验室提供了理想的解决方案,其采用创新设计的非真空卡盘式旋涂吸盘,无需真空泵或充氮气,就能达到很好的旋涂效果。可对大小不同规格的基材都可进行旋涂,尤其是对超薄样品,即使基片厚度0.7毫米、0.55毫米、0.2毫米或更薄时同样能达到较好的旋涂效果。不会出现真空吸盘旋涂较薄的基材衬底翘曲现象,影响涂层的均匀性。
UV Ozone Cleaner是一种简单,经济,快速的材料表面清洗设备,只需把样品放置到样品盘上,关上舱门,设置时间,并按运行,就可以了,能快速去除大多数无机基材(比如石英,硅片,金,镍,铝,砷化镓,氧化铝等)上的有机污染物。特别是当基材和薄膜蒸镀需要很好的粘接时,紫外清洗非常理想。要获得超洁净的表面,只需要在传统清洗后,再用紫外臭氧清洗几分钟就可获得!
Novascan-UVOzoneCleaner,PSDP-UVT系列紫外臭氧清洗机增加了一个可控温的加热样品台,通过PID数字控制器精准反控加热样品台温度,控温范围可达150℃ (200℃可选配)。将PSDP-UV系列的清洗能力提升到了新的水平,能大程度的分解有机分子物质。
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