“中国材料大会”圆满落幕 CIF等离子清洗机表现出色！

一、表面改性-等离子清洗机、紫外臭氧清洗机

CIF等离子清洗设备在自动化、智能化进行了技术升级，使得产品性能更加稳定，操更加作简单方便，更易维护。尤其是合理的结构设计，优化的腔体尺寸，使得处理样品更大，适用范围更广。广泛应用于材料学、微电子、半导体、线路板、LED、微流控、光电太阳能、生物医学等领域，用于材料表面进行清洗、改性、刻蚀等。

1、CIF科研型等离子清洗机系列产品

2、CIF行业专用等离子清洗系列产品

3、CIF紫外臭氧清洗机系列产品

CIF紫外臭氧清洗机系列产品采用长寿命UV石英低压汞蒸汽格栅灯，样品台高度可调并可选加热控温，能快速去除大多数无机基材（比如石英，硅片，金，镍，铝，砷化镓，氧化铝等）上的有机污染物，达到最佳清洗效果。

二、表面去胶-等离子去胶机

CIF等离子去胶机，采用电感耦合各向同性（各个方向）等离子激发方式，适用于所有的基材及复杂的几何构形都可以进行等离子体去胶。特别适合于大学，科研院所和微电子、半导体企业实验室，对电路板、外延片、芯片、环氧基树脂、MEMS制造过程中牺牲层，干刻或湿刻处理前或后，对基材进行聚合物剥离、金属剥离、掩膜材料等光刻胶去除，以及晶圆表面预处理等。

三、表面刻蚀-等离子刻蚀机

CIF反应离子刻蚀机，采用RIE反应离子诱导激发方式，实现对材料表面各向异性的微结构刻蚀。特别适合于大学、科研院所，微电子、半导体企业实验室进行介电材料（SiO2、SiNx等）刻蚀、硅基材料（Si，a-Si，poly Si）刻蚀、III-V材料（GaAs、InP、GaN等）、溅射金属（Au、Pt、Ti、Ta、W等）等基材及复杂的几何构形进行RIE反应离子刻蚀