等离子表面处理仪的工作原理

　　等离子表面处理仪采用气体作为清洗介质，有效地避免了因液体清洗介质对被清洗物带来的二次污染。在于对物体表面处理，清洗、改性、刻蚀等；解决用户不同的表面处理需求。

　　等离子体和固体、液体或气体一样，是物质的一种状态，也叫做物质的第四态。对气体施加足够的能量使之离化便成为等离子状态。等离子体的"活性“组分包括：离子、电子、活性基团、激发态的核素、光子等。等离子体表面处理仪就是通过利用这些活性组分的性质来处理样品表面，从而实现清洁、改性、光刻胶灰化等目的。

　　该设备凭借等离子体中活性粒子的“活化作用”来使得将物体表面污渍去除的目的达到为等离子体清洗的机理。就反应机理来观察。将无机气体激发为等离子态、在固体表面吸附气相物质、被吸附基团与固体表面分子反应使产物分子生成、产物分子被解析使气相形成以及反应残余物从表面脱离为等离子体清洗一般所包含的过程。

　　等离子表面处理仪在材料学，光学，电子学，医药学，环境学、生物学等科研领域得了广泛的应用，主要用于材料表面清洗、活化、沉积、去胶、刻蚀、接枝聚合、疏水、亲水、金属还原、去除有机物、镀膜前处理等。